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鍍銅通常分為化學(xué)鍍銅和電鍍銅
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    1.化學(xué)鍍銅

  化學(xué)鍍銅技術(shù)起始于1947年,Narcus首先報(bào)道了化學(xué)鍍銅溶液化學(xué)。初始階段化學(xué)鍍銅液的穩(wěn)定性很差,溶液易自動(dòng)分解,且施鍍范圍不能控制,所有與溶液接觸

  的地方都有沉積物。而真正意義上的商品化學(xué)鍍銅出現(xiàn)于20世紀(jì)50年代,隨著印制線路板(PCB)通孔金屬化的發(fā)展,化學(xué)鍍銅得到了最早的應(yīng)用。第一個(gè)類似現(xiàn)代的化學(xué)鍍銅溶液由Cahill公開發(fā)表于1957年,鍍液為堿性酒石酸銅鍍浴,甲醛為還原劑。現(xiàn)在,經(jīng)過50多年的開發(fā)研究,形成了相對完善的化學(xué)鍍的溶液化學(xué)知識(shí)以及工藝技術(shù)基礎(chǔ),并建立了初步的基礎(chǔ)理論體系。

  化學(xué)鍍銅是在有鈀等催化活性物質(zhì)的表面,通過甲醛等還原劑的作用,使銅離子還原析出?;瘜W(xué)鍍銅相對于電鍍銅的優(yōu)勢主要有:①基體范圍廣泛;②鍍層厚度均勻:③工藝設(shè)備簡單:④鍍層性能良好。

  2.電鍍銅

  在PCB制造業(yè)中,電鍍鋼已經(jīng)應(yīng)用許多年了,印制板電鍍銅溶液屬酸性溶液,具有高酸低銅特點(diǎn),有極好的分散能力和深鍍能力鍍后的銅層有光澤性。

  在印制板過程中,銅鍍層有兩種作用:一種是全板電鍍銅,保護(hù)剛剛沉積的薄薄化學(xué)銅,防止化學(xué)銅氧化后被酸浸蝕掉,通過電鍍將其加厚到一定的厚度,通常為5gm~8gm,也叫一次銅。另一種是圖形電鍍銅,將孔銅和線路銅加厚到一定厚度或作為鎳的底層,通常厚度為20gm~25gm,也叫二次銅。

 

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